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随着科技不断发展，对水的要求越来越高。超纯水在现代工业，特别是电子工业中的作用日益显著，纯水处理设备已经是工业，特别是电子工业必备的设备之一。
近十多年来，由于集成电路技术的发展，其集成度越来越高，在数毫米见方的硅片上，相邻电路间隔越来越窄，集成电路元件已由数十个增加到十五万个，甚至到今天已达到六十万个。而水中微粒的允许粒径，应不大于相邻电路间隔的1/5~1/10，否则，就有可能导致电路短路。
此外，水中离子附着在硅片上，产生星点，也会导致集成电路性能的改变。水中允许微粒粒径与集成电路集成度的关系是，集成度越高，允许的微粒粒径就越小。
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